三和通商株式会社 三和通商株式会社 三和通商株式会社 三和通商株式会社 SANWA TSUSHO CO., LTD. 文字の変更
大きく標準へ戻す小さく
HOME 製品一覧 会社案内 お問合せ
カテゴリーで選ぶ 製品名で選ぶ メーカー一覧

  PrinCE キャピラリー電気泳動装置 詳細

PrinCE Technologies B.V., The Netherlands


PrinCEキャピラリー電気泳動システムは、モジュール方式ですから検出器が自由に選択できます。ベーシック・教育用から、ルーティン分析用、更に最上位機種まで10種類のモデルを揃えています。
<機種別仕様>からご希望の機種をお選びください。

キャピラリー電気泳動装置は高い分解能と迅速な分析、サンプルと溶媒の微量化、高価なカラムが不要等、他の分析方法に比して著しい利点がありますが、従来の装置は高価格なために、普及が限定的で、特に教育現場での採用が遅れています。
このために、特にベーシック・教育用PrinCE250及びPrinCE - C255は特別低価格を設定しました。


主な特長


加圧、減圧注入

特許取得済のDCI(Dynamic Compression Injection)により - 180 〜 + 250 mbarの加圧、減圧注入が精度 ± 1 %(大気圧校正時)でできます。
DCIの原理は下記をご覧下さい。


勾配制御

勾配を電流、電圧制御することで高精度注入ができます。


キャピラリー温度管理

キャピラリー温度管理は循環空冷とペルチエ素子の併用方式です。


サンプルとバッファーの蒸発及び劣化防止

ペルチエ素子でサンプルとバッファーを4 〜 40°Cに管理して蒸発及び劣化を防止します。
● PrinCE460、PrinCE - 465、PrinCE560及びPrinCE - C660に限ります。


サンプルとバッファーのバイアル数変更

バイアルと例の一部分を入れ替えるとサンプルとバッファーのバイアル数が替えられます。
● PrinCE250及びPrinCE - 255を除きます。


高圧吐出

最高10 barの高圧吐出ができます。
● PrinCE - C255、PrinCE - C455,PrinCE - C465,PrinCE - C650及びPrinCE - C660に限ります。


吐出バッファーの随時交換

二次バッファーリフトで吐出バッファーを随時交換できます。
二次バッファ―リフトは注入用としても使えます。
● PrinCE550、PrinCE560、PrinCE - C650、PrinCE - C660に限ります。


キャピラリー両端からの加圧

キャピラリー両端からの加圧ができ、CEC及び高速洗浄に便利です。
● PrinCE - C650、PrinCE - C660に限ります。


外部制御及びデータ解析ソフト

標準仕様で外部制御用ソフトWinPrinCEを装備しています。各種データステーションソフトとも使用できます。オプションでデータ解析ソフトDAxを用意しています。

ダイナミックコンプレッションインジェクション


PrinCEの加圧減圧注入システムは、所定量のガスをより少ない量に圧縮すると圧力が増加するボイルの法則に基づいています。システム原理は図1と下記の通りです。


1. 注入される液体の入ったバイアルは、バイアルトレイから選択されてインレットソケット①内へと移動します。
2. インレットソケットの円錐部②でバイアルに貫通チューブ③を入れ、平らなPTFE皮膜シリコンシール④で圧縮システムとエアタイトな状態で接続します。
3. さらに上に移動することでシリコンホース⑤は電極ホルダー⑦に押し付けられ、プッシュピン⑧がクランプチューブ⑨を押します。
4. この力でクランプチューブが膨張し、気密密閉状態になります。
5. バイアルの上昇過程で電極⑥及びキャピラリー⑩はバイアル内に入ります。


バイアルが圧力システムと気密接続され、注入圧又はフラッシュ圧がかけられます。

画像 画像
画像 画像

低圧レンジ(ー180〜250 mbar)


気密構造のピストンは内側のガラスバレル内を移動します。
この内側にあるガラスバレルには空気穴が開いていて、ここから同軸の外側のガラスバレル(緩衝部)と通じています(図2参照)。
ピストンが穴に到達するまでは、圧力は内側及び外側のガラスバレル内の空気を圧縮することで生じ、ピストンの位置で正確に制御されます。
ここでの圧力範囲は - 180 〜 250 mbarで、分析中の圧力駆動送液或いはサンプル注入に使用されます。
空気量が比較的大きいので、生じる圧力はバイアル内の空気量にあまり影響されず、ピストンの移動精度にもさほど左右されません。
そのためピストン移動はボイルの法則に基づいて計算ができ(P.V.=一定)、低圧レンジ全体できわめて高精度が得られます。
偏りのない正確な注入を行うために、得られる圧力でピストン移動を校正し、バイアルの空気量を想定することが可能です。

減圧をかけるには、まずピストンを上に移動させ、次にバイアルをシール機構に持ち上げます。ピストンが降りてくるとバイアルに減圧がかかります。

画像 画像
画像 画像

高圧レンジ(250〜2,500 mbar)


ピストンが内側のガラスバレルの穴を超えてさらに上に移動すると、それまで保たれていた圧力は穴をとおる際に周囲に放出され、内側のガラスバレル内に残る空気量のみが圧縮されます。
結果的に僅かなピストン移動で250 〜 2,500 mbarのレンジのかなり高い圧力が生じ、キャピラリーのフラッシュ及び洗浄ができます。
穴より上のガラスバレル内の空気量は比較的少ないため、その空気を圧縮することで得られる圧力はバイアル内の空気量に大きく影響され、又ピストン移動精度によっても変動します。
そのためボイルの法則から移動を計算するのではなく、圧力センサーを使用してピストン移動を制御します。
そのため精度は低圧レンジ時よりも劣りますが、洗浄やフラッシュで問題となる程ではありません。
偏りなく正確に送液するために、得られる圧力でピストン移動を校正し、バイアル内の空気量を想定することが可能です。

圧力ゼロ(ピストンの初期位置)


分析中に周囲圧力を確保するために、ピストンシールは内側のガラスバレルの穴の中央に位置し、この位置でピストンシールより下の空気により内側及び外側のバレル内の空気は周囲の空気と接します。
この位置をピストンの初期位置と呼びます。

ページトップへ

[HOME]   [製品一覧]   [会社案内]   [お問合せ]
Tel: 03-3492-6300  Fax: 03-3492-6311
E-mail: mailto@sanwatsusho.com

仕様は予告なく変更される場合があります。 仕様は予告なく変更され る場合があります。 仕様は予告なく変更される場合があります。 仕様は予告なく変更される場合があります。 サイトマップへ
Copyright (C) SANWA TSUSHO CO., LTD. Copyright (C) SANWA TSUSHO  CO., LTD. Copyright (C) SANWA TSUSHO CO., LTD. Copyright (C) SANWA TSUSHO CO., LTD.

  中国語